汎銓打造埃米世代製程、矽光子、AI 三大專區 迎半導體「黃金10年」

刊登日期:2024/11/26 下午 09:17:43 資料來源:聯合新聞網/ 聯合報
汎銓扎根材料分析技術,提前布局參與客戶High-NA EUV 專用的 MOR(金屬氧化光阻)開發,美國今年2月底的SPIE會議中 High-NA (高數值孔徑)極紫外光(EUV)光阻的最新研發進展資料展現的就是汎銓提供的高解析TEM照片資料,在埃米世代製程占據重要協力者地位。多年前半導體大廠投入矽光子研發初期,汎銓就依據此半導體大廠客戶需求,發展矽光偵測定位、漏光點矽光衰減量測、矽光斷路偵測等矽光量測方案及失效分析技術,9月初成為矽光子產業聯盟創始會員,直接協助提供矽光子產業聯盟成員檢測分析,助力矽光子產業鏈發展。隨著半導體先進製程將進入埃米世代,製程中微小的蝕刻、新材料複雜度提升,須仰賴汎銓精準的材料分析技術,提供明確的結構、成分分析資料,以利客戶製程技術研發判斷,再加上AI人工智慧浪潮掀起海量資料高運算能力需求,矽光子及共同封裝光學元件(CPO)成為突破摩爾定律瓶頸之關鍵,由於汎銓在矽光子、AI晶片分析技術超前部署,更是成為美系AI晶片大廠在台檢測分析夥伴,取得長期穩定AI IC驗證分析服務合作案,並於汎銓旗下營運據點設立在台唯一分析專區。汎銓董事長柳紀綸表示,汎銓從現在開始往後10年,必將在埃米世代+矽光子+AI產品三大領域的測試分析驗證業務快速成長,每年新投入資本支出控制在新台幣5億元,衝高業績控制成本創造獲利。