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台灣光罩 擴大布局14吋光罩產線
台灣光罩股份有限公司
刊登日期：2025/12/24 下午 03:18:05 資料來源：工商時報
台灣光罩董事會近期通過，斥資4.35億元資本支出，作為擴充14吋光罩（Photomask）生產線產能，預計2026年上半年開始安裝，因應未來產業技術發展需求。半導體業者分析，無論是矽中介層光罩拼接，或RDL多層金屬重布，皆需仰賴更大尺寸、更高精度的光罩支撐，14吋光罩有助降低拼接誤差，也可提升單次曝光的有效面積，對高階封裝良率與產能具實質助益。惟法人認為，光罩多由晶圓代工業者設計與掌握，台灣光罩目前主力著墨成熟製程，從90奈米逐步擴展至55奈米與40奈米；跨入先進封裝的確可能取得部分晶圓代工廠或OSAT業者外包需求，對台灣光罩實際貢獻需觀察。台灣光罩指出，明年台灣及東南亞需求成長，持續加大資本支出，預計將擴大上看至20億元，往28／40奈米等更先進製程邁進。轉投資部分持續重整、分拆或整合策略，使光罩營運能夠更加聚焦。
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